秦皇島本征晶體科技有限公司 晶體原料制備、晶體生長(cháng)、元件初加工、精加工、鍍膜和器件產(chǎn)業(yè)鏈閉環(huán)
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窗口片（Windows）光學(xué)中的基礎光學(xué)元件之一，通常用作電子傳感器或外在環(huán)境的檢測器的保護窗。用于分隔兩側的環(huán)境，如分開(kāi)儀器的內部與外部，使儀器的內部與外部相互隔離，從而保護內部器件。窗口片不會(huì )更改系統的放大倍率。
氟化鋰（LiF）晶體也是常用紅外材料的其中一種，它在紅外材料中折射率是小的，它的透射光譜范圍為120nm-7000nm，通常用于熱成像系統，航天光學(xué)系統和準分子激光光學(xué)系統的透鏡，棱鏡和窗口等。
本征晶體公司可提供長(cháng)2-300mm，厚度0.12-60mm（精度可達20-10，1/10L@633nm）的氟化鋰圓形窗口片， 擁有膠盤(pán)拋光、高速拋光、環(huán)形拋光和CNC拋光4大工藝，擁有ZYGO，AFM，反射和透射偏心儀，15秒測角儀，紫外膠合定心系統，非接觸式激光測厚儀，2D成像儀和球徑儀，保證數據的準確性。
鍍膜選擇:
MgF2, UV-AR,UV-VIS ,VIS-EXT, VIS-NIR, NIR I, NIR II, Telecom-NIR,SWIR ,SWIR ,YAG-BBAR.
鍺（Ge）單晶是一種化學(xué)惰性材料，它的透射光譜范圍為2-12μm，是一種非常常用的紅外光學(xué)材料，具有硬度高，導熱性好，不溶于水等特點(diǎn)。廣泛應用于紅外成像系統和紅外光譜儀系統。
熔融石英即Fusedsilica，是氧化硅（石英，硅石）的非晶態(tài)（玻璃態(tài)）。其原子結構長(cháng)程無(wú)序。它通過(guò)三維結構交叉鏈接提供其高使用溫度和低熱膨脹系數。
氟化鋰（LiF）晶體也是常用紅外材料的其中一種，它在紅外材料中折射率是小的，它的透射光譜范圍為120nm-7000nm，通常用于熱成像系統，航天光學(xué)系統和準分子激光光學(xué)系統的透鏡，棱鏡和窗口等。改材
硒化鋅材料對熱沖擊具有承受能力，使它成為高功率CO2激光器系統中的光學(xué)材料。硬度只是多光譜級ZnS的2/3，材質(zhì)較軟易產(chǎn)生劃痕，而且材料折射率較大，所以需要在其表面鍍制高硬度減反射膜來(lái)加以保護并
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